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1、半導(dǎo)體激光器光刻工藝?yán)瞽Z 半導(dǎo)體激光器光刻工藝n光刻工藝步驟n 808 大功率激光器光刻流程n光刻質(zhì)量要求 光刻工藝步驟以正型光刻膠為例： 808 大功率激光器光刻工藝n工藝步驟： 外延材料生長(zhǎng) 一次光刻（腐蝕臺(tái)面） 介質(zhì)膜生長(zhǎng) 二次光刻（腐蝕介質(zhì)膜） 808 大功率激光器光刻工藝n一次光刻將外延層的帽層光刻腐蝕成條形，根據(jù)激光器功率不同，所用光刻版的條寬和腔長(zhǎng)不同。功率越大，條寬越寬、腔長(zhǎng)越長(zhǎng)。 808 大功率激光器光刻工藝n二次光刻將介質(zhì)膜光刻腐蝕露出條形區(qū)，因此二次光刻版透光面與一次光刻版正好相反。同時(shí)二次光刻版的條形區(qū)（透光區(qū)）要比一次光刻時(shí)的條形略窄，要使氧化層覆蓋好條形臺(tái)面的邊緣，
2、以防電流從條形下面流入，造成分流，使工作電流增加、可靠性變差。 光刻質(zhì)量要求（勻膠） 勻膠時(shí)避免灰塵、小顆粒進(jìn)入膠層，否則會(huì)造成有雜質(zhì)的區(qū)域因沒(méi)有膠膜保護(hù)而被腐蝕掉；如果正好發(fā)生在條形臺(tái)面上，會(huì)直接影響這部分管芯的特性參數(shù)。在濕度大的季節(jié)，為保證光刻膠與基片附著牢固，有時(shí)將片子放入表面處理劑中浸泡以增加粘附性能。 光刻質(zhì)量要求（前烘） 前烘使光刻膠固化，溫度要適當(dāng)，大約90100度，時(shí)間20分鐘左右。 光刻質(zhì)量要求（曝光）曝光燈的光強(qiáng)會(huì)隨著工作時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸下降，應(yīng)定期監(jiān)控光強(qiáng)密度。光強(qiáng)太弱，使曝光時(shí)間不充分，在顯影的時(shí)候容易留有底膜、線條邊緣不齊整。光強(qiáng)太強(qiáng)，顯影速度太快，不容易控制圖形。
3、因此要通過(guò)多次實(shí)驗(yàn)（曝光和顯影），確定合適的曝光時(shí)間。曝光能量=光強(qiáng)密度X 曝光時(shí)間 光刻質(zhì)量要求（顯影） 顯影時(shí)間要適當(dāng)，時(shí)間長(zhǎng)了，會(huì)造成過(guò)顯影，線條寬度變窄、邊緣坡度大、不整齊，腐蝕時(shí)容易鉆蝕；顯影時(shí)間短，容易顯不干凈，留有底膜。 光刻質(zhì)量要求顯影后一定要把殘留顯影液、光刻膠、底膜等漂洗干凈，否則腐蝕時(shí)會(huì)出現(xiàn)腐蝕深度不均勻。采用等離子去膠機(jī)處理底膜，保證顯影后沒(méi)有被光刻膠覆蓋的區(qū)域表面干凈。檢查：顯影后在顯微鏡下檢查顯影質(zhì)量，除了檢查上述內(nèi)容外，對(duì)于二次光刻氧化層還要看套刻是否準(zhǔn)確，否則漂掉光刻膠，重新涂膠光刻。 光刻質(zhì)量要求（后烘） 后烘溫度過(guò)高，會(huì)使膠變形、邊緣不陡直，造成腐蝕后線條寬
4、度變窄、邊緣不平直。 光刻質(zhì)量要求（腐蝕）腐蝕臺(tái)面深度：器件類(lèi)型不同，腐蝕深度要求不同。腐蝕氧化層：顯微鏡觀察呈灰白色，條形邊緣要平直，開(kāi)孔條寬在臺(tái)面寬度之中。 光刻質(zhì)量要求（去膠后處理）去膠后也許仍有光刻膠底膜或膠粒，必須完全清除干凈。如果一次光刻后處理不到位，會(huì)使后面氧化層薄膜淀積附著性變差，會(huì)造成解理時(shí)起皮，；如果二次光刻后處理不到位，會(huì)使后面P面TiPtAu薄膜淀積附著性變差,同樣會(huì)造成解理時(shí)起皮、歐姆接觸電阻變大。使用等離子去膠必須通過(guò)實(shí)驗(yàn)控制好能量，否則會(huì)破壞外延材料表面。 光刻質(zhì)量要求（對(duì)版） 一次光刻對(duì)版時(shí)要注意對(duì)準(zhǔn)晶向，保證外延片的切邊與掩膜版上的豎線條垂直 ，即保證管芯解理時(shí)正好解理110自然解理面。如果晶向未對(duì)準(zhǔn)，會(huì)造成解理困難、無(wú)法形成很好的諧振腔、管芯特性差。 光刻質(zhì)量要求（對(duì)版）二次光刻對(duì)版時(shí)要保證與一次光刻的圖形套合準(zhǔn)確，保證氧化層覆蓋好條形臺(tái)面的邊緣，以防電流從條形下面流入，造成分流，使工作電流增加、可靠性變差。設(shè)計(jì)光刻版時(shí)，加入對(duì)版標(biāo)記，可以加快對(duì)版速度、保證套合準(zhǔn)確。 光刻質(zhì)量要求（光刻版保養(yǎng)）光刻版不能有劃痕和污物，光刻版的損傷會(huì)直接造成圖形的不完整、露光等，對(duì)片子成品率造成直接影響。保管時(shí)注意不要被劃傷，每次對(duì)版前必須徹底清洗，使用脫脂棉蘸少許洗滌液在去離子水下一邊沖洗一邊輕輕順線條擦拭版表面，最后用大量的去離子水沖洗干凈 。 謝 謝 ！
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